超聲霧化噴涂

利用超聲波霧化技術(shù)，將液體霧化成細小的液滴，在氣流帶動下，在物質(zhì)表面形成液體薄膜。可以在平坦表面或者溝槽表面（一般的旋涂工藝無法制備）制備薄膜，達到很高的均勻性，其主要用于高分子材料薄膜的制備。如用于IC制造的光刻膠薄膜、石墨烯薄膜、MEMS微結(jié)構(gòu)薄膜等制備。

超聲霧化噴涂的關(guān)鍵設備為超聲霧化噴嘴，本項目來源于國家重大專項02專項，噴嘴主要用于實現(xiàn)光刻膠噴涂的均勻性，高頻率的噴嘴設計制造技術(shù)目前僅美國Seno-tek公司掌握。要突破此技術(shù)主要需攻克3方面的難點：

1）突破超聲霧化噴嘴振動系統(tǒng)的設計方法和制造技術(shù)。

2）突破霧化光刻膠液滴在載氣作用下的霧錐特性和光刻膠霧化液滴的輸運流模型。

3）弄清光刻膠霧化霧錐特性、工藝參數(shù)等因素與膜厚均勻性的影響關(guān)系，指導光刻膠薄膜制備工藝。

目前，團隊已經(jīng)完全掌握以上技術(shù)，噴嘴可達到以下性能指標：

1）噴嘴的諧振頻率可達120KHz；

2）光刻膠液滴長度平均粒徑18μm,膜厚均勻性±3%。

聯(lián)系方式：

北京科大科技園

010-62333830,62335841,62335665,62333626